SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 화웨이에 유출한 혐의를 받은 중국인 여성이 항소심에서 징역 5년을 선고받았다. 사진은 경기도 이천시 SK하이닉스 본사 모습. /사진=뉴시스

SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 화웨이에 유출한 혐의를 받은 중국인 여성이 항소심에서 징역 5년을 선고받았다.

7일 뉴시스에 따르면 이날 수원고법 형사2-1부는 중국 국적 A씨의 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의 항소심 선고 공판을 열고 원심을 파기한 뒤 징역 5년에 벌금 3000만원을 선고했다. 이는 1심에서 선고된 징역 1년 6개월에 벌금 2000만원보다 늘어난 것이다.


A씨는 2013년 SK하이닉스에 입사해 반도체 설계 불량을 분석하는 업무를 맡아오다가 2020년 중국 법인으로 파견됐다. 이후 2022년까지 중국 법인에서 기업 간 거래 고객 상담 팀장급 업무를 맡았다.

그러던 중 2022년 6월 국내로 들어온 A씨는 같은 달 기존 연봉보다 높은 연봉을 받고 화웨이로 이직했다. 그는 이 과정에서 SK하이닉스의 핵심 반도체 기술 구현을 위한 공정 문제 해결책 관련 자료 출력해 화웨이에 유출한 혐의로 기소됐다. A씨가 출력한 자료는 3000여장 분량으로 전해졌다.

재판부는 "피고인은 유출 범행 시점에 경쟁 회사인 화웨이로 이직해 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 반도체 연구 성과물과 영업비밀이 들어있는 문서를 유출했다"며 "피고는 본인이 화웨이에서 메모리 관련 업무를 맡을 것을 예상했고, 이직 시 과도하게 높은 연봉을 받은 것도 기술 대가로 보일 여지가 있다"고 덧붙였다.


이어 "국외 유출된 국가 핵심기술이 회수되지 않아 피해 회사와 대한민국의 피해를 가늠하기 어렵다"며 "이러한 범죄는 국내 기업 생존 기반을 위태롭게 하는 등 엄하게 처벌할 필요가 있다"고 선고 이유를 밝혔다.